トータルアウトガスの発生率を大幅に軽減
高清浄度クリーンルームに求められる、アウトガスを発生しない床材
電子部品や精密機器などの製造に使われる高清浄度クリーンルームでは、半導体の歩留低下の原因となるアウトガス（分子状物質）の抑制が求められます。アウトガスの原因とされる揮発性の高い可塑剤および揮発性の高い材料を除去することにより、クリーンルーム内のアウトガス発生を大幅に低減することができます。
揮発減量率試験
10㎝角の試験体シートを、100℃の撹拌機付きオーブンに入れ、各時間の揮発減量を測定しました。
ロンクリーンリウムは、100℃の加熱による揮発促進試験において72時間経過後も揮発による重量変化が少なく、従来品と比較して揮発物の発生が極めて少ないことが確認できます。
アウトガス試験
試験体シートをチャンバーにセットして50℃に加熱。そこに窒素ガスを60分間流通し、試験体表面から発生したアウトガスをシリコンウエハに付着させ、付着物をGC-MSで測定しました。
ロンクリーンリウムは、付着有機物量が一般品より少なく、付着有機物中の成分に、シリコンウエハの障害となると考えられている、「ピロリドン類」や「酸化防止剤BHT」も検出されません。
